Aston是半導體生產計量領域中的一次重大演變，實現了原位分子過程控制，使現有工廠運行更高效，并可推動產出提升。Aston專為半導體生產而設計，它作為一個強大的平臺，可以取代多種傳統工具，并在一系列全面應用中提供前所未有的控制水平，包括光刻、電介質和導電蝕刻及沉積、腔室清潔、腔室匹配和消解。
“通過Aston，某些應用中的單位工藝吞吐量可以提升40%以上，這是一個很大的改進?！皩τ谝患业湫偷木A廠來說，即使整體產能提高1%，每年的產量也能增加價值數千萬美元。”Atonarp公司首席執行官、首席技術官和創始人Prakash Murthy說，“在現有生產工藝工具上加裝Aston，可在短短6到8周內實現更高產量，而安裝新的生產設備則需要長達一年的時間。這將從本質上幫助制造商提高其生產水平，并有助于解決目前半導體晶圓廠產能不足的問題。”
快速、可操作的端點檢測（EPD）是運行半導體工具和晶圓廠的最有效方式。到目前為止，許多工藝步驟都無法部署EPD，因為所需的原位傳感器不能經受住苛刻的工藝或腔室清潔化學品的影響，或者會因冷凝水沉積而出現堵塞。因此晶圓廠不得不設定特定時間，以確保過程徹底執行完畢。相反，Aston通過準確檢測一個過程何時結束來優化生產，包括腔室清潔，這可將所需的清潔時間減少80%。
Aston對腐蝕性氣體和氣態污染物冷凝物具有抵抗力。它比現有解決方案更堅固，具有獨立的雙電離源（一個經典的電子沖擊電離源，和一個無燈絲等離子體電離器），因此可在半導體生產中出現的惡劣條件下可靠運行。這使Aston能夠原位，即在傳統電子電離器會迅速腐蝕和失效的苛刻環境中使用。
與傳統質量分析儀相比，Aston的服務間隔時間延長了100倍。它擁有自清潔能力，可以清除某些過程中產生的冷凝物沉積。
由于Aston能夠自主產生等離子體，無論是否存在過程等離子體，均可正常運行。這與光學發射光譜測量技術相比具有明顯的優勢，后者需要等離子體源方可操作，這使Aston成為ALD和某些金屬沉積工藝的理想選擇，這些工藝可能會需要使用較弱的、脈沖等離子體，或無需等離子體進行處理。
Aston還能夠通過提供量化、可操作的實時數據來提高過程一致性，并可通過人工智能推進高性能機器學習，滿足最苛刻的過程應用。除此之外，得益于實時數據統計分析和腔室管理的高精確度、靈敏度和可重復性，生產線和產品產量也得到了提高。
Aston主要針對化學氣相沉積（CVD）和蝕刻應用，這兩種應用的年增長率均超過13%。該光譜儀既可在新腔室組裝時安裝在其中，也能夠加裝在已經運行的現有腔室中。